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MOS管在形成導(dǎo)電溝道時出現(xiàn)的耗盡層和反型層有什么區(qū)別?

在 N 溝道 MOS 管中,當(dāng)柵極施加正電壓時,柵極附近的電子被排斥,形成一個電子空缺區(qū)域,這就是耗盡層。相反,在 P 溝道 MOS 管中,當(dāng)柵極施加負(fù)電壓時,柵極附近的空穴被排斥,形成一個空穴空缺區(qū)域,這也是耗盡層。

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MOS管G極串聯(lián)電阻如何抑制諧振?

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